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一台具備(bèi)4個操(cāo)作位點、提供安全、準(zhǔn)確地加熱、實時冷卻、軟件控製和數據記錄的24小時/7天(tiān)無人值守的自動化化學儀器。
一台儀器,無限可能
4個單獨操作位點 | 磁力&機械攪拌 | 2ml~400ml |
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兼具加熱、冷卻功(gōng)能 每個位點可以單獨操作 | 標配磁力攪拌功能 可選配強勁的Mya頂置式機械攪拌(bàn)器 | 兼容**的反(fǎn)應(yīng)瓶樣(yàng)式(shì)和體積(jī) |
自動化(huà)&數據記錄 | -30~180℃ | 控製(zhì)第3方設備 |
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軟件控製 進行24小(xiǎo)時/7天無人值守的化學實驗(yàn) | 模(mó)塊控(kòng)溫、樣品(pǐn)控溫 相鄰(lín)位點間(jiān)溫差可達200℃ | 電腦版(bǎn)軟件可控製:注射泵、蠕動泵、 pH計、真空泵等多種第3方設備 |
靈活多(duō)用 | 更安全、更清潔、更(gèng)環保、更高效 | |
4個單獨操作位點,標配加熱、實(shí)時冷卻功(gōng)能 緊湊型(xíng)設計,適用於多種實驗應用 兼容多(duō)種多樣尺寸和形狀的反應容器 程序化(huà)控(kòng)製(zhì)您的實驗,實時自(zì)動記錄(lù)實驗數據 準確地溫度控製 磁(cí)力(lì)攪拌,機械攪拌 | 取代(dài)低效、雜亂和不安(ān)全的油浴、幹冰浴 更加節省(shěng)實驗室空間(jiān) 兼容第3方(fāng)設備:天平(píng)、泵和pH計等 軟件控製,提高安全性,減(jiǎn)少人為錯誤 24小時/7天無(wú)人值(zhí)守運行,提高效率(lǜ) |
主要(yào)特點(diǎn)
![]() | 歧管型 或 回流型 機頭
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磁力攪拌 或 機械攪拌
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![]() | 可選多種(zhǒng)多樣尺寸和形狀的反應容器 從2ml~400ml,樣品瓶、試(shì)管、圓底燒瓶和過程釜體
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Mya 4控製選項 24小時/7天(tiān)無人(rén)值守地進行您的實驗,可(kě)選的操(cāo)作係統:
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根據您的需求配置Mya 4 您(nín)可以(yǐ)靈活(huó)地配置Mya 4的各類配件,用以(yǐ)適配您的各(gè)類實驗(yàn)
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工(gōng)藝套裝 | 小試套裝(zhuāng) | 其他配置 |
配置(zhì):歧管式機頭 過程釜體 | 配(pèi)置:回流式機頭 圓底燒(shāo)瓶 | 配置: 樣品瓶和(hé)試管 |
靈活(huó)多用,適用於從小試研發到工(gōng)藝開發的眾(zhòng)多實驗應用 |
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小結 | |
4個單獨操作(zuò)位點 | ——可同時使用1,2,3或4個(gè)位點 ——平(píng)行操作4個位點,或由多個使(shǐ)用者分別單獨操(cāo) |
準確地溫度控製 | ——溫度控製範(fàn)圍:-30~180℃ ——相鄰位(wèi)點間溫差可達200℃ ——每個位點的溫度(dù)單獨控製 ——可選擇控製模塊(kuài)溫度或樣品溫度 |
使用自來水或冷水機 | ——Mya 4使用(yòng)先進的半導體製冷技術,可快速製冷至-30℃ ——半導體芯片需要(yào)自來水或冷水機來帶走熱端熱量,以持續製冷(lěng) 冷(lěng)卻源 自來水(15℃) 冷水機(5℃) ***模塊(kuài)溫度 -25℃ -35℃ ***樣品(pǐn)溫度 -20℃ -25℃ |
磁力攪(jiǎo)拌或機械攪拌(bàn) | ——標配磁力攪拌功能,轉速範(fàn)圍:100~1000rpm ——可選配Mya頂置式機械攪拌器,轉速(sù)範圍:100~1000rpm ——每個位點的轉速(sù)單獨控製 ——相鄰位點可分(fèn)別使用磁力攪拌(bàn)或機(jī)械攪拌,互不影響(xiǎng) |
一台具備4個操作位點、提供安全、準確地加熱、實(shí)時冷卻、軟件控(kòng)製和數據記錄(lù)的(de)24小時(shí)/7天無人值守的自(zì)動化(huà)化學儀器。
一台儀器,無限(xiàn)可能
4個單獨操(cāo)作位點 | 磁力&機械攪拌 | 2ml~400ml |
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兼具加熱、冷卻功能 每個位點可以單獨操作 | 標配磁力攪拌功能 可選配強勁的Mya頂置(zhì)式機械攪拌器 | 兼容**的反應瓶樣式(shì)和(hé)體積 |
自(zì)動化&數據記錄 | -30~180℃ | 控製第3方設備 |
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軟件控製 進行24小時/7天無人值守的化(huà)學實驗 | 模塊控溫、樣品控溫 相鄰位點間溫差(chà)可達200℃ | 電腦版軟(ruǎn)件可(kě)控製:注射泵、蠕動泵、 pH計、真空泵等多種第3方設備 |
靈活多用 | 更安全、更清潔、更環保、更高效 | |
4個(gè)單獨(dú)操作位點,標配加熱、實時冷卻功(gōng)能(néng) 緊湊型設計,適用於多(duō)種實驗應用 兼容多(duō)種(zhǒng)多樣(yàng)尺寸和形狀(zhuàng)的反應容(róng)器 程(chéng)序化控製您的實驗,實時自動記錄實驗數據 準確地溫度控製 磁力攪拌,機械攪拌 | 取代低效、雜亂和不安全的油浴、幹冰浴 更加節省實驗室空間 兼容第3方設備:天平、泵和pH計等 軟件控製,提(tí)高安全性,減少人為錯誤 24小時/7天無人值守運行,提高效率 |
主要特點
![]() | 歧管型 或 回流型 機頭
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磁力攪拌 或 機械攪拌
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![]() | 可選多種多樣尺寸和形狀的反應容器 從2ml~400ml,樣品瓶、試管(guǎn)、圓底燒瓶和過程釜體
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Mya 4控製選項 24小時/7天無人值守(shǒu)地進行您的實驗,可選的操作係統:
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根據您的需求配置Mya 4 您可以靈活地配置Mya 4的各類配件,用以(yǐ)適配(pèi)您的各類實驗
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工藝套裝 | 小試套裝 | 其他配置 |
配置:歧管式機頭(tóu) 過程釜(fǔ)體 | 配置:回流式機頭 圓底燒瓶(píng) | 配(pèi)置: 樣品瓶和試管 |
靈活多用,適用於從小試研發到(dào)工藝開發的眾多實驗應用 |
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小結 | |
4個單獨操作位點 | ——可同時使用1,2,3或4個位點 ——平行(háng)操作4個位點,或由多個使用者分別單獨操 |
準確地溫度控製 | ——溫度控製(zhì)範圍:-30~180℃ ——相(xiàng)鄰位點(diǎn)間(jiān)溫差可達200℃ ——每個位(wèi)點的溫度單獨控製 ——可選擇(zé)控製(zhì)模(mó)塊(kuài)溫度或樣品溫度(dù) |
使用自來水或冷水機 | ——Mya 4使(shǐ)用先進的半導體製冷技(jì)術,可快速製冷(lěng)至-30℃ ——半導體芯片需要自來(lái)水或冷水機來帶走熱端熱量,以持續製(zhì)冷 冷卻源 自來水(15℃) 冷水(shuǐ)機(5℃) ***模塊溫度 -25℃ -35℃ ***樣品溫度 -20℃ -25℃ |
磁力攪拌或機(jī)械攪拌 | ——標配磁力攪拌功能,轉速範圍:100~1000rpm ——可選配(pèi)Mya頂置式機械攪拌器,轉速範圍:100~1000rpm ——每個位點的轉速單獨控製 ——相鄰位點可分別使用磁力攪拌或機械(xiè)攪拌,互不影響 |